中微刻蝕設(shè)備獲半導(dǎo)體設(shè)備類創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)大獎
http://www.hxud.cn 2009-02-27 14:05 中企顧問網(wǎng)
本文導(dǎo)讀：中微公司刻蝕設(shè)備獲得中國半導(dǎo)體設(shè)備類創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)大獎
中微公司刻蝕設(shè)備獲得中國半導(dǎo)體設(shè)備類創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)大獎
中微半導(dǎo)體在剛剛召開的2009年 IC 市場年會上喜獲設(shè)備類創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)大獎。此次“中國半導(dǎo)體創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)”評選活動是由頗具聲望的中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會、中國電子材料行業(yè)協(xié)會、中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會、中國電子報共同舉辦并經(jīng)評選委員會按照評審條件和程序進(jìn)行嚴(yán)格的綜合評價。連續(xù)3次的全國評選活動表明了，中國對通過自主研發(fā)和積極創(chuàng)新，擁有自主知識產(chǎn)權(quán)和領(lǐng)先技術(shù)以及積極開發(fā)國際市場和靈活的商業(yè)模式而帶動整個行業(yè)的進(jìn)步表示的贊許和肯定。以研發(fā)和運(yùn)營中心位于上海，中微作為高端的設(shè)備制造商而榮獲殊榮。
另外，在不久前，中微公司也被英國行業(yè)內(nèi)最有影響力的歐亞半導(dǎo)體雜志推舉為集成電路行業(yè)2008年年度新公司獎。這個評選是對那些對半導(dǎo)體行業(yè)的進(jìn)步起推動作用的業(yè)內(nèi)的精英人物，制造工藝，以及產(chǎn)品的認(rèn)可。中微公司由于其團(tuán)隊的技術(shù)優(yōu)勢及其研發(fā)和生產(chǎn)高附加值的關(guān)鍵設(shè)備而贏得業(yè)內(nèi)廣泛的認(rèn)可。
中微公司是先進(jìn)的以亞洲為基地的半導(dǎo)體設(shè)備公司。公司致力于通過技術(shù)創(chuàng)新提高產(chǎn)能從而降低制造成本，為全球先進(jìn)的芯片生產(chǎn)廠家提供一系列高端的芯片生產(chǎn)設(shè)備。中微公司戰(zhàn)略性地將總部設(shè)在全球半導(dǎo)體芯片制造
工業(yè)最集中的地區(qū)，提供獨(dú)樹一幟的擁有技術(shù)創(chuàng)新和成本解決方案的等離子刻蝕和化學(xué)薄膜沉積設(shè)備，為65和45納米以及更高端的器件制造提供技術(shù)幫助和成本控制方案。
中微半導(dǎo)體在剛剛召開的2009年 IC 市場年會上喜獲設(shè)備類創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)大獎。此次“中國半導(dǎo)體創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)”評選活動是由頗具聲望的中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會、中國電子材料行業(yè)協(xié)會、中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會、中國電子報共同舉辦并經(jīng)評選委員會按照評審條件和程序進(jìn)行嚴(yán)格的綜合評價。連續(xù)3次的全國評選活動表明了，中國對通過自主研發(fā)和積極創(chuàng)新，擁有自主知識產(chǎn)權(quán)和領(lǐng)先技術(shù)以及積極開發(fā)國際市場和靈活的商業(yè)模式而帶動整個行業(yè)的進(jìn)步表示的贊許和肯定。以研發(fā)和運(yùn)營中心位于上海，中微作為高端的設(shè)備制造商而榮獲殊榮。
另外，在不久前，中微公司也被英國行業(yè)內(nèi)最有影響力的歐亞半導(dǎo)體雜志推舉為集成電路行業(yè)2008年年度新公司獎。這個評選是對那些對半導(dǎo)體行業(yè)的進(jìn)步起推動作用的業(yè)內(nèi)的精英人物，制造工藝，以及產(chǎn)品的認(rèn)可。中微公司由于其團(tuán)隊的技術(shù)優(yōu)勢及其研發(fā)和生產(chǎn)高附加值的關(guān)鍵設(shè)備而贏得業(yè)內(nèi)廣泛的認(rèn)可。
中微公司是先進(jìn)的以亞洲為基地的半導(dǎo)體設(shè)備公司。公司致力于通過技術(shù)創(chuàng)新提高產(chǎn)能從而降低制造成本，為全球先進(jìn)的芯片生產(chǎn)廠家提供一系列高端的芯片生產(chǎn)設(shè)備。中微公司戰(zhàn)略性地將總部設(shè)在全球半導(dǎo)體芯片制造
工業(yè)最集中的地區(qū)，提供獨(dú)樹一幟的擁有技術(shù)創(chuàng)新和成本解決方案的等離子刻蝕和化學(xué)薄膜沉積設(shè)備，為65和45納米以及更高端的器件制造提供技術(shù)幫助和成本控制方案。
